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FIB制样
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仪器名称:

FIB制样

型    号:

FEI Helios Nanolab 600i

检测项目:

利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工,配合电镜(SEM或TEM)实时观察,进行纳米级分析。

应用范围:

利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表

面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。广泛应用于

半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等。

制样要求:

1.样品大小5×5×1cm,当样品过大需切割取样。

2.样品需导电,不导电样品必须能喷金增加导电性。

3.切割深度必须小于50微米。

4.易氧化,易潮样品需备注说明,QQ沟通。

测试提示:

  1.可开正规测试发票,附带测试清单。

  2.有腐蚀性,毒性,或其他有危害性等特殊样品要事先告知测试人员,测试人员也要告知样品方哪些样品不能测或会对仪器产生损伤,测试后会对样品产生哪些变化;

  3.客户需提供详细的样品资料,包括元素,主要成分和详细测试参数及条件。和测试人员充分讨论,商定最终测试条件;

  4.测试人员与顾客通过QQ或邮件沟通,出现测试纠纷,邮件或聊天记录将作为重要的仲裁依据;请加QQ和技术人员交流:82187958。

  5.杜绝测试、解析和合成违反国家相关法律法规的样品,一经发现将追究其法律责任。

项目内容:

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